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ASML设计1纳米制程光刻新葡萄京娱乐

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根据外媒报导,日前在日本东京举行的ITF(IMEC Technology Forum,.ITF)论坛上,与荷兰半导体大厂ASML合作研发半导体光刻机的比利时半导体研究机构IMEC正式公布了3纳米及以下制程在微缩层面的相关技术细节。

根据IMEC所公布的内容来分析,ASML对于3纳米、2纳米、1.5纳米、1纳米,甚至是小于1纳米的制程都做了清楚的发展规划,意味着ASML基本上已经能开发1纳米制程的光刻新葡萄京娱乐了。

报导指出,在论坛上,IMEC公司总裁兼执行长Luc Van den hove强调,将继续把制程技术微缩到1纳米及以下。对此,IMEC也提出了从3纳米、2纳米、1.5纳米、1纳米,甚至是小于1纳米以下的逻辑元件制程微缩路线图。

根据先前晶圆大工大厂台积电和三星新葡萄京娱乐网站介绍,从7纳米制程技术开始,部分制程技术已经推出了NA=0.33的EUV光刻新葡萄京娱乐,5纳米制程技术也达成了频率的提升,但对于2纳米以后的超精细制程技术,则依然需要能够达成更高的识别率和更高NA(NA=0.55)的光刻新葡萄京娱乐。

对此,目前ASML也已经完成了作为NXE:5000系列的高NA EUV光刻新葡萄京娱乐的基本设计,

但商业化的时间则是预计最快在2022年左右。

Van den hove还指出,逻辑元件制程技术微缩的目的是为了降低功耗、提高性能、减

少面积、以及降低成本,也就是通常所说的PPAC。除了这4个目标外,随着制程向3纳米、2纳米、1.5纳米,甚至超越1纳米而达到小于1纳米以下的制程之际,将努力实现可持续发展微处理器制程技术,以满足对未来先进科技应用的需求。

(来自:科技新报 SEMI